昭和電工、上海と台湾で電材用高純度ガス増産

20/01/14

 高純度N2Oは主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度C4F8は主にその酸化膜の微細加工(エッチング)などに使用される特殊ガス。第5世代移動通信(5G)など情報通信分野の発展と中国政府による産業育成政策により、中国においては今後も半導体及びディスプレイ市場(有機ELテレビ等)の拡大が見込まれている。
 そうした状況下で、昭和電工は現在、高純度N2Oは川崎事業所と韓国で、高純度C4F8は川崎事業所と上海第一工場で生産しているが、拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため「地産地消」施策をさらに進めることにしている。また、中国において年々化学品の規制が強化される中、中国・上海に自社所有の高圧ガス危険物倉庫を確保・拡充することは、サプライチェーンの強化、競争力の向上に大きく寄与することになる。

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